重生，我在八十年代投机倒把 第274节 (第6/6页)

跟前说起你。”

    江小溪顿时不好意思起来，当时来的人太多，江小溪确实记不清了。

    好在方主任并没哟在意，反而因为这层关系对江小溪十分亲切。

    也正是因为对基金会有了解，所以知道江小溪的资产，所以他才起了和江小溪一起开展另外研究课题。

    双方寒暄几句，方主任就直接进入了正题，提出了一个让江小溪惊讶的课题——arf光刻胶研究。

    光刻胶，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

    光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。

    光刻胶为光刻机的一项重要材料，而光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

    第512章 研究经费

    对于光刻胶的发展，目前可以分为四个阶段，ktfr光刻胶、g线/i线光刻胶、krf光刻胶以及arf光刻胶。

    arf光刻胶是世界最新的光刻胶技术，它继承了krf光刻胶的基础，也属于化学放大光刻胶。

    半导体工艺开发联imec正式将arf光刻胶用作两千年下一代半导体0.13μm工艺的抗蚀剂。

    只是相对于世界前沿的光刻胶技术，华夏的光刻胶发展简直称得上可怜。

    华夏光刻胶的研究始于六七十年代，六七年的时候，华夏kpr型负性光刻胶就已经投产。

    七零年，103b型、106型两种负胶投产，环化橡胶系负胶bn-302、bn-303也相继开发成功。

    当时华夏的技术虽然比不上美国，但与日本研究时间相同，技术水平也相差无几。

    只是之后因为种种原因，差距越来越大。